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OSAKA大阪真空 半導體行業(yè)用渦輪分子泵 TGkine4200MI-B
價格
¥13,220.00
型號
TGkine4200MI-B
品牌
OSAKA大阪真空
所在地
暫無
更新時間
2025-12-08 09:51:26
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產(chǎn)品簡介
針對內(nèi)部容易出現(xiàn)反應生成物的設備,需要采取措施來防止設備內(nèi)部反應生成物的堆積與固化。本公司是世界上*家開發(fā)絕熱結構/自加熱機制,采用此構造能有效降低反應生成物的堆積與固化,充分延長分子泵的壽命與維護周期。
以往產(chǎn)品的反應生成物對策
包括對象部位的周圍整體的加熱。
?熱度會分散。不能有效利用。
?其他部位也會受到熱度的影響。
通過使用TGkineMI-B系列
使用外部加熱器實現(xiàn)升溫,同時利用在泵內(nèi)部產(chǎn)生的氣體的摩擦熱,來使接觸氣體部位高效率地升溫
?可以減小外部加熱器的輸出功率,得到節(jié)能的效果。
?可以防止主要部分受到熱度影響,防止泵受損。
?排氣口采用了絕緣材料。保持了*溫度,防止排氣口堆積生成物。
產(chǎn)品描述
實現(xiàn)了控制器和電源的一體化。不需要輸出電纜和控制器機架,減少的設備的占地面積。繼承了TG-M系列的特點,通過轉子的*化設計,進一步提高了排氣性能。
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以往產(chǎn)品的反應生成物對策
包括對象部位的周圍整體的加熱。
?熱度會分散。不能有效利用。
?其他部位也會受到熱度的影響。
通過使用TGkineMI-B系列
使用外部加熱器實現(xiàn)升溫,同時利用在泵內(nèi)部產(chǎn)生的氣體的摩擦熱,來使接觸氣體部位高效率地升溫
?可以減小外部加熱器的輸出功率,得到節(jié)能的效果。
?可以防止主要部分受到熱度影響,防止泵受損。
?排氣口采用了絕緣材料。保持了*溫度,防止排氣口堆積生成物。